铜合金蚀刻工艺要求

(1)铜合金蚀刻工艺过程:预处理*防蚀层制作一装挂一蚀刻*流动水洗*光化处理 — 自动水洗、检查、防蚀层一干燥、下挂*检查*包装。

(2)主要工序要求如下所述。

①预处理:按铜及合金预处理工艺规范(见2.3.3节)进行。

②防蚀层制作:刻划法按刻划法工艺规范(见3.3.7节)进行;感光法按感光法工艺规范 (见3.4.5节)进行;丝印法按丝印工艺规范(见3.5.4节)进行;激光光刻法按激光光刻工艺 规范(见4.2.5节)进行。

③装挂:根据蚀刻方法的不同选择合适的装挂方式。装挂时应牢固，保证工件不相互贴 合、碰撞。装挂位置适当，尽量避免在化学处理时产生气囊，保证蚀刻的均匀性。如是采用传 输式蚀刻设备进行蚀刻则不需要装挂，但要采用合适的工装，防止在喷射时使工件移位而影响蚀刻的进行。

④蚀刻:纯铜碱性蚀刻按表4一16进行，铜及铜合金酸性蚀刻按表4一17进行。 对于垂直蚀刻的工件要定时将上下位置对换，在蚀刻过程中要注意检查蚀刻深度的变化， 在蚀刻到深度的80%左右时应取出工件测量深度，然后再确定余下的蚀刻时间。对于深度不 ，高的台阶及图文蚀刻可根据预先工艺试验确定的时间进行。

       对于垂直蚀刻的工件要定时将上下位置对换，在蚀刻过程中要注意检查蚀刻深度的变化， 在蚀刻到深度的80%左右时应取出工件测量深度，然后再确定余下的蚀刻时间。对于深度不 ，高的台阶及图文蚀刻可根据预先工艺试验确定的时间进行。

⑤光化处理按表4一18进行。

⑥检查:这一步主要是检查蚀刻深度、蚀刻表面的效果是否符合工艺要求并同时检查防 蚀层有无异常。

⑦退除防蚀层:丝印、感光或激光光刻法制作的防蚀层可采用有机溶剂及5%氢氧化钠溶 液进行清理;刻划法制作的防蚀层可直接剥除，对于厚度不大的工件在剥除过程中应注意防止工件变形。

⑧干燥:在60℃一80℃的干燥箱(室)内干燥。

⑨卸挂:卸挂时应戴干净的细纱手套，在以后各工序，操作人员都应戴干净的细纱手套。 ①检查:按金属化学蚀刻验收技术条件(见4.2.5节)执行。

(3)溶液配制与调整如下所述。 

   ①溶液的配制方法:略。②溶液成分的分析项目及分析周期见表4-19.

（4）辅助材料应符合下表规定

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